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板式通明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR)

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板式通明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR)


  技术特点  Features  

· PVD拥有多阶阴极，能够造备种子层与多种折射率的叠层TCO 。

· RPD拥有无高能离子轰击衬底特点，能造备高少子迁徙率的TCO 。



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