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多职能镀膜设备

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多职能镀膜设备

  技术特点 Features  

· 集成热蒸镀(VED)、磁控溅射(PVD)、反映式等离子(RPD)镀膜，以产业化尺度设计研发机台。

· 陆续真空镀膜，削减基板装/卸及膜层露出大气次数，有利于器件效能提升，设备占地面积需要缩幼40%，设备成本降低30%。


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